科技部論證氧陰極低槽電壓離子膜電解制燒堿技術(shù)項目
2014-05-13 19:17:30
admin
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據(jù)科技部網(wǎng)2009年7月3日訊 近日，科技部高新司在北京召開了國家科技支撐計劃“氧陰極低槽電壓離子膜法電解制燒堿技術(shù)”重點項目可行性論證會。
項目在小試技術(shù)的基礎之上，開發(fā)納米碳材料/金屬納米粒子復合催化劑等電極材料的工業(yè)化制備技術(shù)以及氧陰極電極組裝工藝的工業(yè)化技術(shù)，達到高水平，并將制備的氧陰極電極應用于氯堿工業(yè)的核心裝備－離子膜電解槽中，從而達到大幅度降低能耗的目的；通過200噸燒堿/年規(guī)模的氧陰極離子膜電解槽的設計制造與運行評價，開發(fā)裝載氧陰極電極的離子膜電解槽的成套制造技術(shù)以及運行工藝技術(shù)；在國際上首次建設20萬噸燒堿/年規(guī)模氧陰極離子膜燒堿工業(yè)化生產(chǎn)線。
與會專家聽取了項目可行性匯報，一致認為本項目以石油化工產(chǎn)業(yè)調(diào)整與振興規(guī)劃所涉及的需求為牽引，開發(fā)具有自主知識產(chǎn)權(quán)的氧陰極低槽電壓離子膜法電解制燒堿技術(shù)，形成規(guī)模化產(chǎn)業(yè)示范，對發(fā)揮科技支撐作用提升我國氯堿工業(yè)的裝備技術(shù)水平、推動氯堿工業(yè)節(jié)能減排、實現(xiàn)石油化工行業(yè)振興具有重要意義。